湖北省武汉市七一九研究所藏龙岛新区科研区

返回

建筑类型办公建筑

建造地点武汉

服务内容设计

设计时间2009

建筑面积58,000 m2 m2

用地面积58,616 m2 m2

项目描述
分享打印

新区地处武汉市光谷技术经济开发区中心地段,是一座5层的回廊式办公科研建筑楼群。本案以景观庭院与中庭为主导,共设置六个不同的露天庭院与四个内部采光中庭,通过营造层次丰富的绿化氛围和近人的场所尺度来避免研究所新区精神和气质上的缺失。立面设计融合古典美学基本构图原则和现代艺术的抽象集合构图,使建筑作为参与者融合到中心整体环境中,塑造新古典主义的建筑形式。